高纯水设备用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。 高纯水设备在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级反渗透＋EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 高纯水设备工艺流程：原水—原水泵—石英砂过滤—活性炭过滤—阻垢剂加药装置—精密过滤器—一级高压泵—一级反渗透系统—二级高压泵—二级反渗透系统—纯水—EDI膜块—超纯水